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フォトレジスト材料開発の新展開 / 上田充監修
フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ
(CMCテクニカルライブラリー ; 562 . エレクトロニクスシリーズ)
Edition | 普及版 |
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Publisher | 東京 : シーエムシー出版 |
Year | 2015.11 |
Codes | ID=2001664227 NCID=BB19937937 |
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Language | Japanese |
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Size | vii, 317p : 挿図 ; 26cm |
Other titles | title page title:New trends of photoresists |
Notes | 2009年刊の普及版 文献: 各章末 |
Authors | 上田, 充(1948-) <ウエダ, ミツル> |
Subjects | BSH:リソグラフィー BSH:感光性樹脂 |
Classification | NDC8:549.7 NDC9:549.7 |
Vol | ISBN:9784781310398 ; PRICE:5000円 + 税 |
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Location | Volume | Call No. | Barcode No. | Status | Comments | ISBN | Printed | Reserve | Restriction | Copy | eDDS | |
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Eng General Lib, Open Stacks (Japanese Books) |
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621.38/UED | 3580256721 |
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9784781310398 | 2015 |
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