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<Books>
フォトレジスト材料開発の新展開 / 上田充監修
フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ
(CMCテクニカルライブラリー ; 562 . エレクトロニクスシリーズ)

Edition 普及版
Publisher 東京 : シーエムシー出版
Year 2015.11
Codes ID=2001664227 NCID=BB19937937

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Language Japanese
Size vii, 317p : 挿図 ; 26cm
Other titles title page title:New trends of photoresists
Notes 2009年刊の普及版
文献: 各章末
Authors 上田, 充(1948-) <ウエダ, ミツル>
Subjects BSH:リソグラフィー
BSH:感光性樹脂
Classification NDC8:549.7
NDC9:549.7
Vol ISBN:9784781310398 ; PRICE:5000円 + 税

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Eng General Lib, Open Stacks (Japanese Books)
621.38/UED 3580256721
9784781310398 2015

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