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<図書>
プラズマ/プロセスの原理 / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg著 ; 佐藤久明訳
プラズマ プロセス ノ ゲンリ

出版者 東京 : EDリサーチ社
出版年 2001.11
コード類 書誌ID=2000962381 NCID=BA54690460

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本文言語 日本語
大きさ xxi, 430p : 挿図 ; 26cm
別書名 原タイトル:Principles of plasma discharges and materials processing
一般注記 監修 堀勝
参考文献: p419-423
著者標目 *Lieberman, M. A. (Michael A.)
Lichtenberg, Allan J
件 名 LCSH:Plasma dynamics
LCSH:Thin films -- Surfaces  全ての件名で検索
LCSH:Plasma etching
LCSH:Plasma chemistry
分 類 NDC8:427.6
LCC:QC718.5.D9
DC20:530.4/4
巻冊次 PRICE:9500円+税

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工・中央図書室・開架
530.44/LIE 3570629025

2001

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